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Fundamentals of Cleaning Technology

오전 10:30 - 오전 11:45

Cleaning은 Particle, Metal, Polymer, Organic contamination, Native Oxide 및 Damaged Layer 등과 같은 Wafer 상의 원하지 않는 물질들을 제거하여, Device Yield를 감소시키는 노광 불량, Gate Oxide 불량, 전기적 접촉저항 불량 및 배선의 단락 등과 같은 결함을 제어하는 모든 공정을 의미한다. 지속적인 패턴미세화와 더불어 복잡한 구조와 새로운 소재로 인해 인해 cleaning의 공정 난이도가 급격히 증대되어 패턴 손상없이 새로운 구조와 물질을 대응할 수 있는 새로운 cleaning 공정 개발의 필요성이 커지고 있다. 본 강의에서는 cleaning의 기본 개념과 cleaning에 필요한 장비와 재료를 살펴보고 최근 cleaning 기술 동향과 미래에 대해서 다루고자 한다.

Speaker

KS Kim

Prof. Kwangsu Kim

Assistant Professor, Daelim University College

Kwangsu Kim, Ph.D. has been assistant professor at Daelim University since 2017. Prof. Kim manages a semiconductor equipment course of Daelim University which is in an agreement with the Korea Semiconductor Industry Association.
Prior to joining Daelim University, Prof. Kim was a senior engineer for Process Development Team, Samsung Electronics. During his 7 years at Samsung, Prof. Kim spent time developing a cleaning process. Prof. Kim has mainly developed a VNAND high selective phosphate acid process and participated in the development of supercritical equipment.
Prof. Kim received Ph.D. degree in nano technology from the Sungkyun Advance Institute of Nano Technology (SAINT) and Master degree in fluid mechanics from the Sungkyunkwan University.