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Workforce Development : Plasma & Etching Tutorial

2020-02-06 | 오전 9:00 - 오후 12:00
#307

This tutorial is designed as basic course for new engineers who are working at etching technology related area. With the practical lecture from device makers, equipment suppliers and academia, you will learn the hottest issues and challenges in plasma & etching process and fundamental technologies as well.

 

  • 날짜: 2020년 2월 6일(목)
  • 시간: 오전 9:00 - 오후 12:00
  • 장소: 코엑스 3층 307호
  • 언어: 한국어

 

등록비

  SEMI 회원사 비회원사 학생
사전등록 (1/29까지) 100,000 원 120,000 원 50,000 원
현장등록 120,000 원 150,000 원 80,000 원

 

Agenda

Plasma Basic for Semiconductor Processing

Prof. ShinJae You

Chungnam National University
오전 9:00 - 오전 9:45

Q&A / Break

오전 9:45 - 오전 10:00

Plasma Etch with Precision - Cyclic Etch Process

Yoojin Kim

Lam Research
오전 10:00 - 오전 10:45

Q&A / Break

오전 10:45 - 오전 11:00

Future Technology of Dry Etching

Jong Chul Park

Samsung Electronics
오전 11:00 - 오전 11:45

Q&A

오전 11:45 - 오후 12:00

* 상기 일정은 사전 안내없이 변경될 수 있습니다.