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Workforce Development : Deposition Tutorial

2020-02-05 | 오전 9:00 - 오후 12:00
#308

This tutorial is designed for who wants to learn basic of deposition technology trends. Especially, Atomic Layer Deposition(ALD) which is the key technology in deposition process will be covered.

 

  • 날짜: 2020년 2월 5일(수)
  • 시간: 오전 9:00 - 오후 12:00
  • 장소: 코엑스 3층 308호
  • 언어: 한국어

 

등록비

  SEMI 회원사 비회원사 학생
사전등록 (1/29까지) 100,000 원 120,000 원 50,000 원
현장등록 120,000 원 150,000 원 80,000 원

 

Agenda

ALD Fundamentals

Won-Jun Lee

Sejong University
오전 9:00 - 오전 9:45

Q&A / Break

오전 9:45 - 오전 10:00

ALD Technology and Trend in Semiconductor Industry

Wanki Kim

Lam Research
오전 10:00 - 오전 10:45

Q&A / Break

오전 10:45 - 오전 11:00

Type of Si Precursor Used in the ALD Process and Application in 3D NAND Flash

Seok Min Jeon

SK hynix
오전 11:00 - 오전 11:45

Q&A

오전 11:45 - 오후 12:00