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Lithography Process Technology

오전 9:00 - 오전 9:50

본 Tutorial은 신입 Photo Engineer, 반도체 관련 타 분야 종사자 및 학생들을 대상으로 Photolithgraphy 공정에 대한 기초 지식 습득과 기본 원리 이해를 돕기 위한 과정입니다. 

Photolithography는 광원, Photomask, Optics 및 Wafer에 도포된 Photoresist를 활용하여 Wafer에 반도체 회로 패턴을 구현하는 복잡한 공정이지만 Fundamental한 원리부터 관련 용어 및 핵심 요소 등을 설명드립니다. 또한, 반도체 집적도 향상을 위하여 적용되고 있는 SMO, PSM, OPC 등 여러 Photolithography 공정의 Resolution Enhancement Technique (RET) 기술들에 대한 소개 내용이 포함되어 있습니다. 해당 Tutorial 수강을 통해 Photolithography 공정에 대한 이해도를 높여드리는 것을 목표로 합니다.  

Featured Speakers

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Jung Sik Kim

Dr / Engineer, SK hynix

-. SK Hynix EUV선행기술팀의 Photo Engineer

-. 한양대학교 Nanoscale Semiconductor Engineering 연구실에서 석박사 학위 취득

-. EUV Lithography Imaging 및 Mask Simulation 전문 분야

-. 현재 Next Tech-node DRAM 제품 개발 및 신규 EUV Blank 구조 개발 업무 담당